10月15日至17日湾芯展将在深圳举办，鉴于今年上半年在上海举行的SEMICON China 2025展会上，拥有华为基因的新凯来一下子发布了30多款半导体设备，几乎涵盖了芯片产业链的全流程工具，大家对湾芯展上新凯来会发布什么新设备充满期待。
此外， 深圳发改委主任在新闻发布会上提到，“新凯来讲带来意想不到的惊喜”。这一预热更是吊足了大家的胃口，难道新凯来发布高端光刻机吗？若真实如此，那么我国将在芯片领域迎来deepseek时刻。
从技术演进看，光刻机历经六代发展：G线、I线、KrF、干式DUV、湿式DUV至EUV。后两代与前四代的最大差别是介质从空气变成了水，而EUV光刻机是当下最先进的产品，全世界只有荷兰公司阿斯麦能够生产。
去年9月，工信部披露的两台国产光刻机中，氟化氪光刻机属第三代KrF技术，氟化氩光刻机则为第四代干式DUV，其8纳米套刻精度曾引发误解。
展开剩余76%需明确的是，套刻精度与工艺制程并非同一概念。以荷兰阿斯麦的产品为例，一款代号为1460K的干式DUV光刻机虽实现5纳米套刻精度，实际量产能力仅达65纳米制程。当前主流湿式DUV光刻机的套刻精度已达1.3-2.5纳米。
理性来讲直接跨越第五代光刻机发布第六代EUV的可能性不大。
不过，如果这次新凯来能带来全自研的湿式DUV光刻机，其突破意义依然重大，绝对称得上“出乎意外的惊喜”。
这是因为我国很早就能制造干式DUV光刻机了，始终卡在第五代湿式DUV上。美国阻止荷兰、日本卖给我们的也是EUV和湿式DUV光刻机，一旦咱们自己能造了就意味着冲破了该领域的“卡脖子”。
关于新凯来是否涉足光刻机研发的争议，需结合其子公司布局分析。新凯来本身或全资子公司可能不造光刻机，但其与另一家国资企业创科微共同出资设立的上海宇量昇科技有限公司就是为了突破光刻机而成立的。
前两年，新凯来与创科微各出资一半设立了宇量昇，明确聚焦半导体专用设备研发，尤其在光刻技术领域承担关键技术突破使命。而根据外媒报道，中芯国际正测试宇量昇研发的湿式DUV光刻机。
考虑到中芯国际与宇量昇总部同处上海浦东，这种“近水楼台”的协作模式为技术突破提供了便利条件。更值得关注的是，宇量昇的股东结构——新凯来背后是深圳国资委，创科微隶属上海国资委，这种“双城联动”模式恰恰体现了我国“集中力量办大事”的制度优势，提升了湾芯展上发布湿式DUV光刻机的可能性。
再强调一下，若湿式DUV光刻机实现国产化，其战略价值远超单一设备本身。
从产业链看，高世代光刻机的突破将彻底摆脱美国等西方国家在半导体领域的“卡脖子”威胁；从技术演进路径分析，EUV光刻机的国产化大概率将随湿式DUV的成功而加速推进。
更深层的意义在于，当中国在半导体设备领域实现关键突破，结合自身在稀土供应等战略资源上的垄断优势，将在全球科技博弈中掌握更多主动权。
稀土作为半导体材料的重要上游资源，其稳定供应直接关系到全球半导体产业链安全。中国在稀土开采、提炼、加工全链条的技术优势，配合半导体设备的自主可控，将形成“资源+技术”的双重保障，构建更具韧性的产业生态。
站在历史维度回望，每一次光刻技术的代际跨越都伴随着人类对微观世界的更深探索。从G线到EUV，从实验室到量产线，光刻机的发展始终是科技突破的缩影。
如今，中国半导体产业正站在新的历史节点。湾芯展的脚步渐近，业界期待的不只是某款设备的亮相，更是一个产业生态的蜕变。当湿式DUV光刻机真正实现自主可控，当EUV光刻机的研发步入正轨，当半导体“卡脖子”成为历史，中国科技行业将迎来真正的“春暖花开”。
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